Page 161 - 精细化工2020年第2期
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第 2 期 门孝平,等: 复合材料 POSS/TX-10/Bent 的制备及其吸附性能 ·363·
备单改性膨润土的优良特性,目前被越来越多的研 91 mL(0.1 mol)质量分数为 10%四甲基氢氧化铵
究者所采纳。多面齐聚倍半硅氧烷(POSS)是内部 水溶液中,在室温条件下搅拌 24 h,再移入 60 ℃
由 Si—O 键交替连接的硅氧无机内核,其顶角上 Si 水浴中继续搅拌 10 h,然后用旋转蒸发仪进行浓缩
原子连接有机基团构成具有三维纳米骨架结构的无 提纯,提纯后的产物放入 2 ℃的冰箱中结晶 12 h,最
[8]
机-有机复合材料 ,具有良好的反应活性、相容性 后将析出的晶体通过丙酮洗涤过滤干燥 [16] ,产品记
以及热稳定性,为它赋予复合改性材料更优异的性 为 POSS。
[9]
能提供了基础 。传统的 POSS 带有大量的有机支 1.2.2 复合材料 POSS/TX-10/Bent 的制备
链,水溶性较差,需要大量的有机溶剂进行溶解,所 Bent 在 120 ℃的条件下烘干 10 h,研磨,过
以改性膨润土时,易造成二次污染 [10] 。TX-10 型非 200 目筛备用,取 10 g 的 Bent 与 100 mL 的去离子
离子表面活性剂改性膨润土可以增加膨润土的含碳 水按料液比(Bent 质量与去离子水体积的比值,下
量,改善层间环境,促进水中有机物在膨润土表面 同)1∶10 加入进行浸渍溶胀 8 h,再向其中分别加
的吸附,并且与传统的阳离子表面活性剂相比具有 入 100 mL 质量分数为 1%的 POSS 溶液和 100 mL
低毒、低成本的优点 [11] 。 质量分数为 5%的 TX-10 型非离子表面活性剂溶液,
亚甲基蓝是一种应用广泛的阳离子染料,它具 在 30 ℃的条件下搅拌 6 h,用去离子水进行多次水
有致病突变性 [12] ,在水中难降解,易对水生生物及 洗离心,在 120 ℃条件下干燥,研磨,过 200 目筛,
人体产生极大的危害 [13] ,以往的研究显示活性炭对 得到复合改性样品,记为 POSS/TX-10/Bent。
亚甲基蓝有较强的吸附能力,但其价格昂贵、回收 1.2.3 吸附实验
及再生困难,难以大规模应用 [14] ,壳聚糖作为天然 向一定浓度的亚甲基蓝溶液加入一定质量的
的聚合物,有很强吸附能力的同时具有生物可降解 POSS/TX-10/Bent,在一定温度下吸附一定时间,经
性,其不足是对 pH 非常敏感,根据 pH 变化会形成 过离心取上清液,用紫外分光光度计在 664 nm 处测
凝胶或溶解 [15] 。因此,本研究在水相中合成了一种 定吸光度,按下式计算吸附效果。
POSS,并且和 TX-10 型非离子表面活性剂在水溶液
中对膨润土进行复合改性,以亚甲基蓝为模型污染 %η / 1 e 1 0 0 (1)
物考察复合改性膨润土的吸附性能,并讨论了亚甲 0
基蓝在复合改性膨润土上的动力学和热力学参数,为 q ( 0 e ) V (2)
开发一种新型绿色高效且环境适用能力较强的吸附 m
剂提供一定的参考依据。 式中:η 为亚甲基蓝去除率,%; 为吸附平衡后
e
溶液质量浓度,mg/L; 为吸附前溶液质量浓度,
0
1 实验部分 mg/L;q 为亚甲基蓝吸附量,mg/g;V 为溶液体积,
1.1 试剂及仪器 L;m 为 POSS/TX-10/Bent 的质量,g。
钠基膨润土(Bent),200 目,杭州浙地非金属 2 结果与讨论
有限公司;四甲基氢氧化铵、正硅酸乙酯,AR,上
海阿拉丁生化科技股份有限公司;亚甲基蓝、浓盐 2.1 POSS/TX-10/Bent 的表征分析
酸、氢氧化钠,AR,天津市光复科技发展有限公司; 2.1.1 XRD 表征
TX-10 型非离子表面活性剂,工业级,江苏省海安 图 1 为 Bent 和 POSS/TX-10/Bent 的 XRD 谱图。
石油化工厂。
IS10 傅里叶变换红外光谱仪,美国 Thermo
Fisher Nicolet 公司;D8 ADVAVCE X 射线衍射仪,德
国 Bruker 公司;Tri STAR3020 氮气物理吸附仪,美国
Micromeritics 公司;SU8010 扫描电镜,日本日立公
司;K-Alpha X 射线光电子能谱仪,美国 Thermo
Fisher 公司;vario EL cube 有机元素分析仪,德国
Elementar 公司;UV-1800PC 紫外-可见分光光度计,
上海美普达有限公司。
1.2 实验方法
1.2.1 多面齐聚倍半硅氧烷(POSS)的制备 图 1 Bent(a)和 POSS/TX-10/Bent(b)的 XRD 谱图
将 22.3 mL(0.1 mol)的正硅酸乙酯缓慢滴入 Fig. 1 XRD patterns of Bent (a) and POSS/TX-10/Bent (b)