Page 71 - 《精细化工》2021年第12期
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第 12 期 孙寒雪,等: 基于共轭微孔聚合物的二维膜材料构筑及应用 ·2433·
氧化偶联反应 [14] 、席夫碱缩合反应 [15] 等)制备 CMPs 解性。通过溶液旋涂法在载玻片表面可形成连续均
材料时,其过程主要受动力学控制,合成的 CMPs 匀的、光滑的 SCMP1 薄膜。然而,这种薄膜材料机
材料多数为固体粉末。由于 CMPs 骨架的刚性结构, 械强度较低,无法形成自支撑薄膜。REN 等 [21] 则系
存在难以加工的问题,这极大地限制了 CMPs 材料 统研究了 Sonogashira-Hagihara 偶联反应中单体分
在实际中的应用。近年来,具有二维结构的 CMPs 子烷基链长和结构对 CMPs 溶解性的影响。他们以
膜材料的构筑引起了学术界的广泛关注。理论上, 1,3,5-三乙炔基苯、1,4-二乙炔基苯及含碳支链的二
CMPs 膜材料既保留了 CMPs 材料的 π-共轭骨架和 溴噻吩为单体制备了 10 种 CMPs 材料(命名为
纳米多孔结构,又兼具二维材料优异的可加工性和 SCMPs-1~SCMPs-10)。其中,由于 1,4-二乙炔苯与
可利用的片层结构。2012 年,CHENG 等 [16] 首次利 二溴噻吩均为线性分子,理论上能够形成线性聚合
用可溶性 CMPs 制备了薄膜材料,引起了该领域的 物,进而提高 SCMPs 在有机溶剂中的溶解性。研究
广泛关注。之后,众多学者在 Sonogashira-Hagihara 发现,增加烷基取代二溴噻吩单体中烷基链的长度可
偶联聚合法的基础上又发展了模板法、界面聚合法 以增加其溶解度,SCMP-8(单体为 1,4-二乙炔基苯
等,制备了多种表面形貌和化学组成的 CMPs 膜材 和 2,5-二溴-3-己基噻吩)和 SCMP-10(单体为 1,4-
料,并探索了其在抑菌、分离、能量储存等领域的 二乙炔基苯和 2,5-二溴-3-辛基噻吩)的溶解性最优。
应用,如图 1 所示。 通过旋涂法可在聚二甲基硅氧烷表面制备 SCMPs
薄膜。虽然旋涂法是制备薄膜材料常用的方法,但
对于 CMPs 体系而言,受限于可溶性 CMPs 材料的
制备,目前该法制备 CMPs 膜材料仍具较大挑战性。
1.2 电化学法
CMPs 的化学结构主要取决于其砌块单元化学
组成。因此,可将具有电化学活性的结构单元原位
引入到 CMPs 结构中,利用电场作用在电极表面制
[8]
备 CMPs 薄膜。如 GU 等 利用咔唑基团的电化学
活性,以四(4-咔唑基苯基)甲烷作为单体,采用
电化学聚合法得到了 CMPs 膜材料。薄膜尺寸可由
沉积基底(ITO 玻璃)的尺寸来控制,且当控制电
图 1 CMPs 膜材料的合成方法及应用 [17-20] 化学沉积时间时,可制备厚度>150 nm 的自支撑
Fig. 1 Synthesis method and applications of CMPs based
membrance materials [17-20] CMPs 膜。目前,电化学法制备的 CMPs 膜多用于
电子器件薄膜,单体选择范围有限,且在大尺寸
1 CMPs 膜材料的制备方法 CMPs 薄膜合成方面还存在局限性。
1.3 界面聚合法
1.1 旋涂法 近年来,基于 Schotten- Baumann 反应的界面聚
旋涂法是制备薄膜材料常用的方法,通常利用 合法广泛应用于纳滤膜和反渗透膜(如聚酰胺膜等)
旋涂仪高速旋转产生的离心力,将聚合物溶液均匀 的制备与合成 [22-23] ,其具有操作简单、可控性好等
铺展在平滑基底表面,待溶剂挥发后会在基底表面 优点。受此方法启发,CHEN 等 [24] 创新性地调整界
形成一层聚合物薄膜。在这种方法中,聚合物溶液 面聚合策略,结合 Sonogashira-Hagihara 偶联反应和
的分散是影响成膜性的关键。然而,对于 CMPs 材 席夫碱反应,制备了一系列 CMPs 膜材料。此方法
料而言,刚性基团的存在导致其在多数有机溶剂中 的设计策略在于将单体、催化剂分别置于油水两相
不溶,因此,制备可溶性的 CMPs 材料是成膜的难 中,在相界面处单体与催化剂充分接触从而发生聚
点所在。2012 年,CHENG 等 [16] 受可溶性超支化聚 合反应。例如,以 1,3,5-三乙炔基苯与 1,4-二碘苯为
苯撑材料的启发,通过 Suzuki 反应以 1,3,6,8-四溴 单体制备 CMPs 薄膜时,将催化剂碘化亚铜和三乙
芘(A4 型分子单体)为基础制备了一种可溶性的 胺溶解到水相中,而将两种单体和另一种催化剂双
CMPs 材料(命名为 SCMP1),这也是报道的首个 (三苯基膦)氯化钯(Ⅱ)分散于二甲苯中形成有
可溶性 CMPs 材料。SCMPs 的可溶性主要源于在 1 机相,两相混合形成油水界面,在加热和氮气氛围
个 A2 型单体结构中引入了叔丁基基团,限制了 下静置接触进行 Sonogashira-Hagihara 偶联反应,在
CMPs 的相对分子质量,从而在部分有机溶剂(如 油水两相界面上形成了 CMPs 薄膜。基于 Sonogashira-
四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯等)中显示出良好的溶 Hagihara 偶联反应,通过调控单体种类,以 1,3,5-