Page 59 - 《精细化工》2022年第7期
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第 7 期                       方   健,等: 2H-MoS 2 定向调控生成 1T-MoS 2 及应用                       ·1345·


            并通过光刻技术,证明了 ML-MoS 2 中的选定区域相                       起的单层 MoS 2 的电荷再分布、电子束下空位的形
            变。在该实验中,他们发现用携带一定动能的 Ar                            成以及相关机械应变所产生的结果。机理主要为:
            等离子体轰击 2H-MoS 2 可以有效触发顶部 S 层的横                     电子束通过照射损坏、诱导的化学蚀刻以及可能的
            向滑动,从而形成 1T 相纳米结构。这种调控方法可                          电子激发而产生空位,在升高的温度下,空位高度
            以获得 1T 相占比 40%的 MoS 2 材料,并且通过这种                    移动,并且和它们中的大多数聚集在一起成为线缺
            简单的等离子处理,过程干净,可控且可扩展(机                             陷。而出现的线缺陷是硫平面滑动形成 1T 相的先决
            理见图 7)。处理过程中,由于 Ar 等离子体轰击较                         条件。总的来说,其研究结果不仅阐明了电子束照
            弱,生成的 1T-MoS 2 颗粒尺寸大小通常为几纳米。                       射诱导下 MoS 2 相变的机理,而且两相之间能量差
            一般情况下,使用正确的等离子能量,该过程可以                             的变化和电子束照射可能会导致更高浓度的硫属元
            在短时间内完成。但是,应精准控制 Ar 离子的动能,                         素空位,可为了解电子束照射诱导 MoS 2 发生相变
            以使顶部 S 层滑动而不破坏整个 MoS 2 层。此外,                       提供一些见解和思路。
            使用 Ar 等离子体轰击诱导从 2H 至 1T 的相变依赖                          综上所述,通过施加外部能量来诱导 MoS 2 相
            于硫空位的形成,硫空位能稳定 1T 相的结构。另外,                         的转变虽是近些年兴起的一种方法,其中所涉及的
            该方法类似于电子束方法,发生相变的特定区域是                             原理和控制因素等尚不清楚,产率也并不高,但其
            可控制的。但是它的规模很小,仅适用于微量                               过程可控,而且便于原位了解相转变过程的发生,
            1T-MoS 2 的制备。                                      因而在实验室规模下具有特殊的优势。
                                                               1.6   应变力调控 2H-MoS 2 向 1T-MoS 2 的定向转变
                                                                   已有研究应用了机械拉伸、弯曲应变和压缩应
                                                               变等来调整 MoS 2 层的电子结构           [47] ,并且这些研究
                                                               还结合 DFT 计算预测了应变力会稳定亚稳态的
                                                                      [48-49]
                                                               1T-MoS 2   。事实上,很多将 1T-MoS 2 注入 2H-MoS 2
                                                               或将 2H-MoS 2 转化为 1T-MoS 2 (部分转化)的方法
                                                               中,相变可能是由于某种处理引起的应变力的结果。
                                                               SONG 等  [50] 使用机械应变来控制 MoTe 2 的相变温
                                                               度,演示了应变设计的薄膜 MoTe 2 的室温半导体 2H

                                                               相到金属 1T 相的演变过程。通过引入 0.2%的拉伸
             图 7   等离子体轰击诱导 2H-MoS 2 生成 1T-MoS 2 的机理           应变,将 MoTe 2 的 2H 至 1T 相变的温度降低到室温,
            Fig. 7    Mechanism of 2H-MoS 2  producing  1T-MoS 2  by   并且这种预期的相变温度下所证实的应变调控将与
                   plasma bombardment induction method
                                                               其他 TDMs 材料兼容。此外,在释放应变后,在环
            1.5.2   电子束照射诱使 2H-MoS 2 转变为 1T-MoS 2              境条件下,室温下观察到的 MoTe 2 相转变是完全可
                 2014,LIN 等   [29] 通过电子束照射诱导了二维                逆的。HWANG 等      [51] 使用 N-(2-氨基乙基)-3α-羟基-
            MoS 2 从半导体三角棱柱 2H 相到金属八面体 1T 相                     5β-乔兰-24-酰胺(LCA)作为自组装剂,将剥离的
            的局部转变。通过原位透射电子显微镜等表征技术                             2H-MoS 2 纳米片卷成纳米卷。在反应过程中,由于
            证明了电子 束照射可以 可控诱导 2H-MoS 2 向                        LCA 的胺官能团与 MoS 2 纳米片边缘之间的相互作
            1T-MoS 2 的局部结构相变,并且发现了 2H/1T 相变                    用,导致了弯曲应变。该弯曲应变不仅引起滚动现
            涉及硫和/或钼的原子平面的滑动,而单层 MoS 2 中                        象,而且引起 S 平面的滑动(在相当于 0.079 nm 的
            的相变除了简单的原子平面滑动之外,还涉及许多                             距离上,占据 2H 晶格的中心位置),从而导致 1T
            原子位移,并且需要中间相(α 相)作为前体。此                            相的形成。由于逐层范德华力相互作用,通过在
            外,还发现两种边界(β-边界和 γ-边界)的迁移是                          200  ℃下进行热处理,1T-MoS 2 的比例可以进一步
            第二阶段相变发生增长的原因。之后,KRETSCHMER                        提高到 58%(最大弯曲应变为 3.2%)。此外,高压
            等 [30] 使用第一原理计算,详细地研究了可能导致电                        等处理方式同样可以引起压缩应变来实现 MoS 2 的
            子束下 MoS 2 发生相转变的因素,如机械应变、有                         半导体相到金属相的转变,但通常该压缩力会极
            限的空位浓度、杂质和局部电荷转移、电子激发以                             高,从而使得该方法较危险且难以实现。因而在合
            及温度。研究表明,尽管这些因素都减小了 2H 相                           成用于化工应用(例如电池,催化等领域)的
            和 1T 相之间的能量差,但很可能将这些因素组合在                          1T-MoS 2 时,不建议使用此方法。而对于(SC)CO 2
            一起才能引起亚稳态 1T-MoS 2 稳定性的提高,即电                       辅助等调控方法中,在其调控过程中也可能存在相
            子束照射诱导 MoS 2 相的转变很可能是电子激发引                         似的应变力。通过局部应变工程引起的相变是控制
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