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·1860· 精细化工 FINE CHEMICALS 第 35 卷

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萃取 、泡沫萃取 、大孔树脂吸附 [10] 、制备色谱 [11] 聚合、表面印迹等 [19] 。
等。但这些技术对甘草酸的提取和纯化不具有特异 沉淀聚合法可以制备出粒径为几微米到几百微
性，并且有机溶剂消耗量大，因此，开发经济、高 米的聚合物微球，且模板分子的识别位点主要集中
效的提取和纯化甘草酸的方法尤为重要。 在聚合物表面，能很好地避免传统本体聚合研磨、
分子印迹技术是一种简单、高效的提纯方法， 筛分等后续工艺造成的聚合物识别位点的破坏和聚
通过将特定的分子识别位点引入到聚合物基质中， 合物的损失，是一种高效的聚合方式 [20] 。
达到特异性吸附目标分子的目的 [12-13] 。分子印迹技 本文采用沉淀聚合法制备甘草酸印迹聚合物
术已经被广泛应用于手性拆分、化学传感器、抗体模 （制备流程如下式所示）。根据甘草酸的结构特点，
拟、酶催化模拟等领域 [14-16] 。甘草酸分子上含有羟基、 基于甘草酸在印迹聚合物内与单体形成氢键作用力
羧基、醚基等可以形成氢键的官能团，适合当模板 的原理，选取甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸羟
分子来制备分子印迹聚合物。Cirillo 等采用本体聚 乙酯（HEMA）和 4-乙烯基吡啶（4-VP）为反应单
合法制备了 3 种甘草酸印迹聚合物，并用于药物传 体，制备了一系列甘草酸印迹聚合物。其中，MAA
输系统 [17] 。Tang 等同样采用本体聚合法制备了多种 和 HEMA 具有氢键的供体和受体、4-VP 具有氢键
甘草酸印迹聚合物，考察了功能单体、模板分子和 受体，可以和甘草酸分子内的羟基、羧基、醚基等
交联剂的配比对印迹聚合物吸附性能的影响，并用 形成氢键。根据甘草酸的溶解性特点，选取乙腈和
于甘草提取物的精制，将甘草提取物中甘草酸的质量分 N,N-二甲基甲酰胺混合液作为反应致孔剂。通过
数由 15.03%提高到 53.63% [18] 。但本体聚合的研磨、 SEM、FTIR、BET 等来考察不同聚合条件对印迹聚
筛分等后续工艺会造成聚合物识别位点的破坏和聚 合物的结构、甘草酸吸附-解吸及特异选择性的影
合物的损失。近些年来新的制备分子印迹聚合物的 响。以期开发出经济、高效纯化甘草酸的印迹材料，
方法相继出现并成为研究热点，如悬浮聚合、沉淀 并为印迹材料的研究提供科学依据。

1 实验部分 0.16 mmol）和 MAA（137.7 mg，1.6 mmol）加入到
装有 33 mL 致孔剂（25 mL 乙腈和 8 mL DMF 的混合
1.1 试剂 液）的茄型瓶中，然后放入 25 ℃摇床中使两者充分
甘草根（由新疆天山制药有限公司提供，经石
混合，2 h 后取出。向上述溶液中加入 DVB （520.7 mg，
河子大学药学院成玉怀高级实验师鉴定为光果甘
4 mmol）和 AIBN（26.3 mg，0.16 mmol）。采用三
草）；甲基丙烯酸（AR）、甲基丙烯酸羟乙酯（AR）
冻三抽法除去溶液中氧气，具体方法如下：先用液氮
和乙二醇二甲基丙烯酸酯（EGDMA，AR）购买于
将溶液冻住，油泵抽真空 5 min 后，放入 60 ℃左右
上海源叶生物科技有限公司；甘草酸标准品（质量 的温水中解冻（该过程有大量气泡从溶液中排出），
分数≥98%）、4-乙烯基吡啶（AR）、二乙烯基苯
整个过程进行 3 次。溶液除氧后向茄型瓶中充入氮
（DVB，AR）和偶氮二异丁腈（AIBN，AR）购买
气，密封后放入 62 ℃油浴中磁力搅拌反应 24 h（反
于上海阿拉丁生化科技股份有限公司；液氮（质量
应完成后产生大量乳白色沉淀物）。以 9000 r/min 离
分数≥99.9%）购买于石河子大学分析测试中心；乙
心 12 min，移去上清液，得到甘草酸印迹聚合物。用
腈（ACN）和甲醇为色谱纯，美国 Fisher 公司；N,N-
30 mL 甲醇-醋酸〔V（甲醇） : V（醋酸）=9 : 1〕混
甲基甲酰胺（AR）和乙醇（AR）购买于天津市光
合溶液超声清洗 3 次（每次超声时间为 90 min），以
复科技发展有限公司。所有单体和交联剂都经减压
洗脱甘草酸分子，之后用甲醇将残留的乙酸清洗干净，
蒸馏除去阻聚剂，AIBN 经重结晶处理。
1.2 分子印迹聚合物的制备 放入 60 ℃烘箱中烘干，MIPs 制备完成，常温密封保
分子印迹聚合物（MIPs）的制备条件见表 1。以 存，备用。相应的非印迹聚合物（NIPs）的制备方法
MIP4 为例，制备方法如下：首先，将甘草酸（131.7 mg， 除不加入甘草酸外，其余步骤同上，制备条件见表 1。