Page 122 - 《精细化工》2021年第10期
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·2052·                            精细化工   FINE CHEMICALS                                 第 38 卷

            进行测试。TGA 测试:升温速率为 10  ℃/min,气                      物均匀混合。为了改善 SiO 2 易团聚、难以均匀分散
            氛为 N 2 ,测试温度为 25~800  ℃。SEM 测试:扫描                  的问题,WERNER 等       [21] 采用硅氧烷为修饰剂,在氨
            电压为 2.0 kV。AFM 测试:采用 ScanAsyst TM mode             水催化作用下水解生成硅羟基化合物 R—Si(—
            和 Tapping mode 两种模式观察,扫描速度 0.996 Hz,               OH) 3 ,硅羟基再与 SiO 2 微球表面的硅羟基发生缩合
            长宽比 1.00,扫描角 0°。                                   反应,实现 SiO 2 表面被亲油性多层分子修饰。选取
            1.3.2   性能测试                                       OTMS 作为疏水改性剂,用于制备疏水性涂料和自
                 接触角测试:测定样品的接触角与滚动角,温                          组装单层膜,其表面有一层十八烷基硅烷的“帽子”,
            度为 20  ℃,水量为 5  μL,在同一样品的不同位置                      形成分子膜后将亲水表面转换为疏水表面。
            测量 5 次,取平均值。耐磨性能测试:按照 GB/T
            1770—2008  [19] 方法进行测量,测试时,运行速度为
            50 次/min,运行行程 100 mm,摩擦介质为棉纱,棉
            纱摩擦头总质量为 500 g,采用 100 g 砝码,摩擦 150
            次后测表面接触角。附着力测试:划 X 法测试                    [20] ,
            用美工刀沿直线切割涂膜至底材,夹角为 30°~45°,

            划线长度约为 40 mm,交叉点在划线的中间,把胶                              将 OTMS-SiO 2 添加至 PE 薄膜表面的有机硅树
            带放在交点,抹平后以 180°撕开,观察撕开后的涂                          脂中,有机硅树脂采用 Vi-PDMS 与 PMHS,并固化
            层状态。                                               形成交联网络结构所得,制备方案如图 1 所示。
                                                               OTMS-SiO 2 的引入有利于增加复合涂层的表面粗糙
            2   结果与讨论
                                                               度,并且树脂可以使纳米粒子相互黏连,增强结构
                 纳米 SiO 2 因表面能高,为热力学非稳定状态,                     稳定性。如无其他说明,以下均以复合涂层 S3 进行
            极易聚集成团,其表面亲水疏油,因此不易与有机                             性能测试和表征。




























                                              图 1   有机硅树脂涂层的制备示意图
                                Fig. 1    Schematic diagram of preparation of organic silicon-based coatings

                                                                                          –1
            2.1   结构分析                                         缩振动吸收峰,其中,2921 cm 处的吸收峰归属于
            2.1.1  SiO 2 改性前后和复合涂层 S3 的 FTIR 分析                C—CH 3 中 C—H 键的不对称伸缩振动,2853 cm              –1
                 OTMS 改性纳米 SiO 2 的 FTIR 谱图见图 2。由               处的吸收峰归属于 C—CH 2 —C 中 C—H 键的对称伸
                             –1
                                                                              –1
            图 2 可知,3450 cm 处为未经修饰的纳米 SiO 2 的表                  缩振动。1105 cm 处为 Si—O—Si 键的反对称收缩
                                                –1
                                                                                    –1
            面羟基伸缩振动吸收峰,改性后 3450 cm 处的吸收                        振动吸收峰,在 1105 cm 附近峰形变宽,1466 cm              –1
            峰强度减弱,说明 Si—OH 参与了缩合反应。在                           附近新的吸收峰为—CH 2 —的弯曲振动,由此可初
                            –1
            2921 和 2853 cm 处新增了对应甲基和亚甲基的伸                      步判断,OTMS 已成功化学键合至纳米 SiO 2 的表面。
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