Page 105 - 《精细化工》2022年第8期
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第 8 期           冷   超,等:  等离子体改性 TiO 2 /WO 3 /Bi 2 WO 6 纳米复合材料及其可见光催化活性                 ·1605·


            烘箱中进行干燥,研磨后得三元复合材料 TiO 2 /WO 3 /                   中,将一定量的样品粉末装入石英槽,并且将其置
            Bi 2 WO 6 。为表述方便,在本文中 TiO 2 的质量分数记                 于等离子体射流喷口处,工作气压维持在 20 Pa,
            为 10.9%(即 TiO 2 的质量与合成所需五水合硝酸铋、                    O 2 /Ar 流量比为 0.75。其中,O 2 为 15 SCCM(标准
                                                                         3
            二水合钨酸钠、TiO 2 三者总质量之比)。二元复合材                        状态下,cm /min),Ar 为 20 SCCM,放电电压峰值
                                                               分别设置为 0.9、1.0 和 1.1 kV,辐照处理时间均为
            料 WO 3/Bi 2WO 6 的合成方法与上述相同(不添加 TiO 2
            粉体),水热反应温度分别设置为 120、140、160  ℃,                    5 min,为了提高样品等离子体辐照处理的均匀性,
            制得产物分别表示为 120  ℃ WO 3/ Bi 2WO 6、140  ℃             每隔 1 min 将样品取出进行搅拌处理。为方便起见,
            WO 3/Bi 2WO 6、160  ℃ WO 3/Bi 2WO 6。                将等离子体改性处理后的 TiO 2 /WO 3 /Bi 2 WO 6 样品分
            1.3   等离子体改性实验装置及其放电过程                             别命名为 AP0.9(放电电压为 0.9 kV)、AP1.0(放
                 图 1a 为自制的用于材料表面改性的高密度(电                       电电压为 1.0 kV)、AP1.1(放电电压为 1.1 kV)。图
                                             –3
                              11
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            子密度高达 1.0×10 ~1.0×10  cm )等离子体实                    1b 为典型的电压-电流波形,电压波形呈现一个稳态
            验装置示意图(其中,V 和 I 为等离子体放电电压和                         正弦波形,幅值较小,而电流波形本质上也是一个
            放电电流;AC 为交流高压电源)。系统由真空系统(真                         正弦波形,放电电流最大值可达 0.1 A。此时,明亮
            空室及机械泵抽气系统)、管状放电结构、混气装置                            的交流辉光放电等离子体充满整个电极空间,并且
            (采用气体质量流量计控制气体流量)、供电系统等构                           沿着气体流动方向在石英玻璃管喇叭形端口喷出,
            成,其设计参数详见本课题组之前的报道                  [26-27] 。本文    从而实现对粉末样品进行等离子体改性。


















                            1—等离子体放电电极;2—真空绝缘密封装置;3~5—石英玻璃管;6—石英槽;7—真空室
                                  图 1   等离子体改性实验装置示意图(a)及电压电流波形图(b)
               Fig. 1    Schematic diagram of plasma modification experimental device (a) and typical voltage and current waveform (b)

            1.4   表征                                           隔 10 min 提取 1.5 mL 溶液,离心(4000 r/min,10 min)
                 采用 X 射线衍射仪在工作电压为 40 kV、电流                     去除光催化剂。最后用波长范围为 200~1100 nm 的
            为 40 mA、Cu K α 辐射(λ=0.15418 nm)下对样品进               紫外-可见分光光谱仪测得 MB 溶液的吸光度,根据
            行 XRD 测量。采用场发射扫描电子显微镜观察样品                          降解前后吸光度的变化可以测得 MB 溶液的浓度随
            的表面形貌。采用高分辨率透射电子显微镜研究其                             降解时间的变化,进而计算得出对溶液中 MB 的去
            微观结构。采用 X 射线光电子能谱分析了光催化剂                           除率,即 MB 的降解率。
            的组成,并在 284.6 eV 处校准了 C 1s 峰,研究了元
                                                               2   结果与讨论
            素的化学状态。采用稳态/瞬态荧光光谱仪测量样品
            的稳态荧光发射(PL)光谱。紫外-可见漫反射光谱                           2.1   WO 3 /Bi 2 WO 6 相结构及其光催化性能
            (UV-Vis DRS)的测量采用附有积分球的分光光度
                                                                   通过 XRD 技术对所制备的二元 WO 3 /Bi 2 WO 6
            计进行。光谱分析范围为 200~800 nm,以高反射率                       复合样品的晶体结构进行分析,如图 2a 所示。由图
            的 BaSO 4 粉末压片作为标准参比物。                              2a 观察到,所制备的二元 WO 3 /Bi 2 WO 6 复合样品的
            1.5   光催化性能和光稳定性测试                                 衍射峰峰形基本一致,均与三斜晶相 WO 3 (JCPDS
                 采用 500 W 氙灯和 420 nm 截止滤光片在可见                  No.32-1395)和四方晶相 Bi 2 WO 6 (JCPDS No.26-
            光照射下降解亚甲基蓝(MB)来测试样品的光催化                            1044)的衍射峰相对应,表明 WO 3 和 Bi 2 WO 6 成功
            活性。具体步骤如下:取 0.1 g 光催化剂与 160 mL                     耦合成复合纳米片        [28] 。在二元 WO 3 /Bi 2 WO 6 复合材
            1 g/L MB 溶液,通过磁力搅拌进行混合并在避光条                        料中没有观察到其他相或杂质的峰,说明在适当的
            件下搅拌 30 min,使其达到吸附-脱附平衡。随后,每                       温度范围内改变反应温度将不会影响样品的相结
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