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第 11 期 冯 胜，等: UiO-66/GO 纳米复合材料的制备及吸附性能
2
561.79 mg/g)更接近。其他 3 种等温方程中的 R 值
都比相同温度下 Langmuir 方程的要低，这也证实了
Langmuir 模型能更好地拟合 UiO-66/GO-2 对 CR 的
吸附过程。由于 0 <R L <1，因此，吸附过程是有利的。
这些结果也表明，UiO-66/ GO-2 对 CR 的吸附是在
外表面上的单层吸附。另外，由于 E<8 kJ/mol，CR
的吸附过程属于物理吸附。综上所述，UiO-66/GO-2
对 CR 的吸附过程为单层物理吸附。
2.4 再生性能
吸附剂的再生和循环利用在实际吸附应用中是
至关重要的。UiO-66/GO-2 吸附去除 CR 的循环利
用情况和再生的 XRD 见图 9。
图 9 （a）UiO-66/GO-2 吸附去除 CR 的循环利用；（b）UiO-
66/GO-2 和第 5 次再生的 UiO-66/GO-2 的 XRD 图
Fig. 9 (a)Recycling of UiO-66/GO-2 for the adsorptive removal
of CR; (b) XRD patterns of UiO-66/GO-2 and fifth-
regenerated UiO-66/GO-2
如图 9a 所示，UiO-66/GO-2 在 5 次运行后保留
了 89%以上的去除率。5 次循环后，去除率仅降低
7%，证明 UiO-66/GO-2 是可重复使用的。XRD（图
9b）显示，新鲜的和第 5 次再生的 UiO-66/GO-2 衍
射峰基本一致，表明这种多功能 MOF 复合材料结构
的稳定性。
3 结论
采用溶剂热法一步合成了 Zr 基复 合材料
（UiO-66/GO），并详细讨论了该材料的吸附性能。
GO 的有效掺杂增加了 UiO-66/GO 复合材料的比表
·1947·
面积，提供了更多的吸附位点，从而增强了其对 CR
的吸附性能。其中 UiO-66/GO-2 在 318 K 下的最大
理论吸附量为 561.79 mg/g，分别是相同条件下
UiO-66 和 GO 对 CR 吸附量的 2.8 倍和 7.1 倍，证明
了 UiO-66 和 GO 之间有效的协同效应。同时，Langmuir
等温线结果表明 UiO-66/GO-2 对 CR 的吸附属于单
层物理吸附。运用简单的 DMF 洗涤方法能够对
UiO-66/GO-2 进行 5 次循环再生，表明 UiO-66/GO-2
具有良好的液相吸附稳定性。CR 吸附的优异表现使
UiO-66/GO-2 有望成为去除大分子有机染料的潜在
候选材料。
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