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·890· 精细化工 FINE CHEMICALS 第 36 卷

以看出，HYP 和 AM 摩尔比从 1∶0 增加到 1∶8
（n(HYP)∶n(IA)=1∶7）时，波峰强度减弱非常明
显，但摩尔比进一步增加后，波峰只有微小的减弱。
实验结果表明，HYP 与 AM（IA）之间发生了强烈
的相互作用，结合模板分子与功能单体的分子静电
势分析，可以推断这种结合力应为较强的氢键作用，
分子间强氢键作用导致吸收峰出现部分红移现象，
这与相互作用的理论计算结果非常吻合，HYP-AM
和 HYP-IA 复合物的最优印迹比例分别为 n(HYP)∶
n(AM)=1∶8 和 n(HYP)∶n(IA)=1∶7。综上所述，
提高模板分子与功能单体的摩尔比例，并不会明显
增强模板分子与功能单体分子间的相互作用，这为
模板分子与功能单体最佳摩尔比的选择提供了合理
的解释；通过比较模板分子与不同功能单体的相互
作用力大小，可以筛选出最优的功能单体，以提高
分子印迹吸附效率。

4 结论

（1）分子静电势分析表明，HYP 中 O11 可与
AM 中 H9（或 H10）以及 IA 中 H2（或 H15）形成
强氢键作用，而 O12—H13、O15—H16、O25—H26、
O27—H28、O41—H42、O44—H45、O47—H48、
O52—H53 可与 AM 中 O7 以及 IA 中 O4（或 O13）
形成强氢键作用。
（2）相互作用理论计算表明，HYP-AM 和
HYP-IA 复合物系统的高摩尔比可以增加复合物中
的总相互作用能量，但不能增强活性位点之间的相
互作用强度，不需要使用过量的 AM 或 IA 来合成
HYP 的分子印迹聚合物。
（3）紫外光谱分析表明，HYP 与 AM（或 IA）
之间发生了强烈的氢键相互作用，分子间强氢键作
用导致吸收峰发生部分红移，同时验证了 DFT 理论
计算的准确性。
（4）DFT 理论计算和紫外光谱分析共同表明
HYP-AM 和 HYP-IA 复合物的最优印迹比例分别为
n(HYP) ∶n(AM)=1∶8 和 n(HYP) ∶n(IA)=1∶7，

且 HYP-IA 比 HYP-AM 的相互作用力更强，IA 是更
图 6 HYP-IA 的吸收峰随不同摩尔比的变化
Fig. 6 Variation of the absorption peaks of HYP-IA with 好的功能单体。
different molar ratios （5）所获得的结果可为 HYP 或其他分子印迹聚
合物制备所需功能单体的选择、功能单体与模板分
的红移。Ⅰ、Ⅱ、Ⅳ吸收峰红移至最大值与相互作
子的最佳比例以及印迹位点的精确设计提供理论指
用有关，其红移变化值越大表示相互作用越强；吸
导，进而改善分子印迹吸附效率。
收峰Ⅲ蓝移至最小值且变化较大可能与相互作用无
关，而是由其它原因导致。由于 HYP-IA 的Ⅰ(图 6a)、 参考文献：
Ⅱ(图 6b)、Ⅳ(图 6d)吸收峰红移值都大于 HYP-AM， [1] Yao Kai (姚开), Jia Dongying (贾冬英), He Qiang (何强), et al.
Separation of main monomers from soybean isoflavone by column
故 HYP-IA 比 HYP-AM 相互作用力更强，与上述理
chromatography[J]. Journal of Sichuan University (Engineering
论计算分析的结果一致。此外，从图 4A、B 中也可 Science Edition) 〔四川大学学报(工程科学版)〕, 2004, 36(3):