Page 216 - 《精细化工》2020年第1期
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·202· 精细化工 FINE CHEMICALS 第 37 卷
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成 [3-4] ,因此,电子级多晶硅标准 中要求碳原子浓 1 实验部分
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度小于 1.5×10 atoms/cm 。
目前,高纯 SiHCl 3 中杂质以及碳含量的去除主 1.1 试剂与仪器
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要有精馏、吸附和反应络合 3 类方法。精馏是利用 SiHCl 3 (质量分数 99%,CH 4 Cl 2 Si 含量 1.5×10
物质间沸点的不同,通过气液交换实现分离,可通 g/g)、N 2 (体积分数 99.999%),洛阳中硅高科技有
过引入多级精馏塔连续提纯和对精馏过程进行强 限公司;Cl 2 (体积分数 99.999%),林德气体有限公
化,例如高效塔内件、填料和热耦合的引入 [6-9] ,间 司。
壁精馏塔的使用 [10-11] 等,实现杂质的去除。但是多 NP7030C 柱塞泵,江苏汉邦科技有限公司;
级精馏塔的引入导致系统工艺流程长,产品的稳定 M15+C51 质量流量控制器,荷兰 Bronkhorst 公司;
性差和投资成本高。另外,CH 4 Cl 2 Si 与 SiHCl 3 的沸 GDX-2010 高低温循环装置、S212-5L 双层玻璃反应釜,
点接近,通过精馏塔内气液交换实现分离难度很大。 西安予辉实验仪器有限公司;实验精馏塔(200 mm,
吸附则是利用化合物中各组分化学键极性不同,吸 高 8000 mm),江苏远方迪威尔设备科技有限公司;
附树脂上的功能原子或基团与目标杂质形成配位化 电子级多晶硅评价炉(1 对棒),江苏瑞吉格泰油气
合物进行杂质分离,吸附剂主要有活性炭、硅胶、 工程有限公司;7890B-5977 气相色谱-质谱联用仪,
分子筛和吸附树脂 [12-14] 。寇晓康等 [15] 制备了一种螯 美国 Agilent Technologies 公司;Nicolet 5700 傅里叶
合树脂,利用树脂上的功能原子与目标离子发生配 变换红外光谱仪,美国 Thermo Nicolet 公司。
位反应,形成类似小分子螯合物的稳定结构,对 微通道反应器、G1 玻璃反应器,康宁陶瓷材料
SiHCl 3 中杂质有较高去除率。谭军等 [16] 利用硅胶吸 (上海)有限公司。反应器通道为毫米级宽度,呈
附氯硅烷中的氯化氢和金属化合物、非金属氯化物 脉冲式连续排列,见图 1。
以及络合物,制备出高纯度氯硅烷(SiHCl 3 、四氯
化硅、二氯二氢硅)。吸附除杂难点是吸附剂的选型,
同时吸附精度有限,过程容易引入杂质 [17] 。络合反
应是电子对给予体与电子接受体互相作用而形成各
种络合物的过程,通过添加反应试剂与目标物质反
应,达到转化或去除杂质的目的。难点是试剂的选
择和副反应的控制。Naoki 等 [18] 向三氯氢硅中添加
芳香醛,使其与硼、磷等杂质进行反应,并配合精
馏提纯,将杂质控制至较低水平。Darnell 等 [19] 在反
应过程中添加氧,氧与 SiHCl 3 中的 Si—H 反应生成
SiOH,之后与 BCl 3 和 PCl 3 形成配合物,通过蒸馏
将其除去。Ghetti [20] 利用二苯基硫卡巴腙或三苯基氯
甲烷与 SiHCl 3 中的杂质反应,形成杂质大分子复合
物,再通过精馏塔进行分离。采用反应除杂研究主
要集中在硼、磷和金属杂质的反应去除,对碳氢杂 图 1 微通道反应模块结构(a)和光源布置图(b)
质的去除不具有针对性,去除效果不佳。 Fig. 1 Micro-channel reaction module structure (a) and
light array (b)
连续流微通道反应器的反应通道窄,传质系数
高,反应物料在微通道内实现高速碰撞混合,瞬间 反应器比表面积高达 2500 m /m ,通道内流体
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达到均一的反应环境,反应效率高,反应时间短, 一般呈层流状态,可形成微米级薄层,使反应过程
有效避免了反应物及产物的分解和其他副产物的产 中流体接近平推流,扩散距离短,扩散速度快。反
生,同时,过程为平推流反应,可避免物料返混。 应模块由反应区和换热夹层组成。其中,换热区在
本文采用反应联合精馏工艺,在光催化作用下,使 反应区的两侧,换热系数 1700 kW/(m ·K),换热夹
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用高比表面积、高传热和传质效率的微通道反应器, 层通入换热介质,进行闭路循环,控制反应温度,
使 Cl 2 与 CH 4 Cl 2 Si 进行氯化反应,将 CH 4 Cl 2 Si 转化 传热效率高且均匀,实现精准控温。光源按照矩阵
为高 Cl 含量的甲基氯硅烷,实现杂质沸点的提升。 进行陈列,布置在反应模块的两侧,各波长光源可
考察了光源、Cl 2 量、反应温度、反应时间等因素对 以独立控制,可调光照强度。
氯化反应的影响。 双层玻璃反应釜为高硼硅玻璃材质,具有良好