Page 122 - 《精细化工》2022年第10期
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·2056·                            精细化工   FINE CHEMICALS                                 第 39 卷

            聚集区,说明在经 Na 2 S 2 O 4 缺氧处理后 CS-NID 中               持单峰分布,表明 CS-NID 胶束具有一定的 pH 敏感
            疏水的 6-(2-硝基咪唑)己酰胺基团被还原成亲水的                         性,在酸性条件下胶束会因壳聚糖大分子链上胺基
            6-(2-胺基咪唑)己酰胺基团,聚合物丧失了两亲性。                         的质子化而溶胀但不会发生解体。如表 1 所示,
                 CS-NID 胶束的粒径分布和 Zeta 电位测试结果如                  CS-NID 3.9 、CS-NID 6.3 和 CS-NID 8.9  3 种胶束的 Zeta
                                                               电位分 别为 (29.07±4.89) 、 (27.55±2.53) 和 (37.04±
            图 3c 和表 1 所示。CS-NID 3.9、CS-NID 6.3 和 CS-NID 8.9
            在水中形成的胶束平均粒径分别约为 190、182 和                         2.25) mV,均带正电荷。这是由于壳聚糖大分子链
            165 nm,平均粒径随疏水的 6-(2-硝基咪唑)己酰胺基                     上的氨基使得 CS-NID 胶束带大量正电荷,较高的
            团取代度增大而减小。这是因为随壳聚糖取代度增                             正 Zeta 电位值有利于胶束稳定存在。图 3d 为
            加,CS-NID 聚合物疏水性增大,会自组装形成更致                         CS-NID 8.9 胶束的 TEM 图。表明干胶束粒径为
            密的胶束。因此,可以通过调节取代度来调控胶束                             130~200 nm,粒径分布较宽,呈现明显的球形结
            的粒径。同时测定了 CS-NID 8.9 胶束在常氧 pH 5.4                  构。为进一步评估胶束的稳定性,测定了 CS-NID 8.9
            的 PBS 溶液中的粒径分布,发现平均粒径会增大至                          胶束在 10 d 内的粒径和 Zeta 电位的变化,结果见
            237 nm,同时粒径多分散指数增大至 0.273,但仍保                      图 4。




































            图 3   不同质量浓度的 CS-NID 8.9 胶束溶液中芘的荧光发射光谱(a);CS-NID 8.9 在常氧和缺氧条件下的 I 377 /I 387 与质量
                  浓度关系曲线(b);CS-NID 8.9 胶束在常氧和缺氧条件下的粒径分布曲线(c);CS-NID 8.9 胶束的 TEM 图(d)
            Fig. 3    Fluorescence emission spectra of pyrene in CS-NID 8.9   micelle solutions with different  mass concentrations (a);
                   Relationship between  I 377 /I 387  and mass concentration of CS-NID 8.9  under normoxia and hypoxia conditions (b);
                   Particle size distribution of CS-NID 8.9  micelles under normoxia and hypoxia conditions (c); TEM image of CS-NID 8.9
                   micelles (d)
                                   表 1   不同取代度的 CS-NID 和 DOX@CS-NID 胶束的性能对比
                   Table 1    Performance comparison of CS-NID and DOX@CS-NID micelles with different degrees of substitution
                   样品            粒径/nm        多分散性        Zeta 电位/mV     稳定性          载药率/%        包封率/%
               CS-NID 3.9        190±0.31    0.210±0.01    29.07±4.89      好            —            —
               CS-NID 6.3        182±3.31    0.262±0.01    27.55±2.53      好            —            —
                                 165±0.94    0.174±0.001   37.04±2.25      好            —            —
               CS-NID 8.9
                                  92±0.49    0.248±0.008   34.73±2.43      好           11.7          39.1
               DOX@CS-NID 3.9
                                  97±0.83    0.250±0.007   32.35±3.74      好           13.3          44.3
               DOX@CS-NID 6.3
               DOX@CS-NID 8.9    114±1.67    0.249±0.006   31.06±3.37      好           11.9          39.6
                 注:“—”代表无数据。
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