Page 35 - 《精细化工》2022年第7期
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第 7 期                     万建升,等: N—Cl 型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展                                  ·1321·


            谱抗菌、长期稳定、抗菌性能可再生以及对人体和                             体与材料基质相结合,再经次氯酸盐氯化得到。当
                                                  [4]
            环境的安全性等优势得到越来越多的关注 。                               N—Cl 型卤胺抗菌材料吸附水分后,N—Cl 键会发
                 1927 年,GMELIN 首次提出作为氮的卤素衍生                    生水解反应,释放出氯正离子,通过氯正离子的强
                             [3]
            物的 N-卤胺化合物 。20 世纪 70 年代初,KOVACIC                   氧化作用破坏微生物的细胞膜与新陈代谢,使细胞快
              [5]
            等 对 N—Cl 和 N—Br 衍生物的化学性质进行了全                       速失活,从而达到抗菌效果。病毒失活后,N—Cl
                                              [6]
            面讨论。20 世纪 80 年代,BARNELA 等 和 WORLEY                 被还原为 N—H 键,但经过次氯酸盐的氯化之后,
              [7]
            等 合成了具有抗菌性的 N-卤胺化合物。卤胺抗菌                           又重新获得 N—Cl 键,给 N—Cl 型卤胺抗菌材料带
            剂指含一个或多个 N—X(X 通常为 Cl、Br 或 I)                      来可再生的抗菌性能         [11] 。尽管由 N—Cl 型卤胺抗菌
            共价键的有机化合物,将含有胺、酰胺或酰亚胺基                             剂所开发的抗菌材料具有优异的抗菌以及抗菌再生
            团的前驱体化合物经过次卤酸盐(如次氯酸钠)氧                             性能,但其 315~400 nm 长波紫外光下的不稳定性会
            化后得到 N—X 卤胺抗菌剂。由于 N—Br 键和 N—I                      导致活性氯含量在短时间内降低,影响材料的抗菌
            键更加活泼、不稳定,很难在实际中应用,故卤胺                             性能。通过改变卤胺前驱体结构、引入有机和无机紫
            抗菌剂中的卤素通常为氯。                                       外吸收剂提高材料的抗紫外性能,减缓活性氯含量
                                                        [8]
                 N—Cl型卤胺抗菌材料的制备通常是通过化学 、                       的流失,保持材料抗菌性能的持久性。N—Cl 型卤胺
                         [9]
            物理表面改性 以及静电纺丝              [10] 等方法将卤胺前驱           抗菌材料紫外稳定性及其抗菌示意图如图 1 所示。


























                                     图 1  N—Cl 型卤胺抗菌材料紫外稳定性及其抗菌示意图
                           Fig. 1    UV stability and schematic diagram of N—Cl haloamines antibacterial materials

                 本文归纳了 N—Cl 型卤胺抗菌剂的种类,总结                       加稳定、持久      [12-13] 。最常见的包括乙内酰脲(海因)
            了 N—Cl 型卤胺抗菌材料在紫外光下不稳定的原因                          类(图 2a)、咪唑烷酮类(图 2b)、唑烷酮类(图
            并着重介绍了提高 N—Cl 型卤胺抗菌材料紫外稳定                          2c)、琥珀酰亚胺类(图 2d)、4-哌啶醇类(图 2e)、
            性的方法与途径。                                           氰尿酸类(图 2f)、1,3,5-三嗪-2,4-二酮类(图 2g)、
                                                               巴比妥酸类(图 2h)等。
            1  N—Cl 型卤胺抗菌剂的种类及卤胺抗菌
                材料的紫外不稳定性原因

            1.1   N—Cl 型卤胺抗菌剂的种类
                 N—Cl 型卤胺抗菌剂根据其分子结构的不同可
            以分为环状、非环状、环状/非环状复合型。通过合成
            过程中使用的前驱体结构可进一步细分为不同类别。
                 环状 N—Cl 型卤胺抗菌剂通常为五元环或六元
            环结构,同时含有一个或多个 N—Cl 键。环状卤胺

            抗菌剂由于其结构中不含 α-H,阻止了脱卤化氢过                                        图 2   环状卤胺抗菌剂
                                                                                              [4]
                                                                                                       [4]
            程,减少了活性氯含量的损失,因此其抗菌性能更                                 Fig. 2  Cyclic N-halamines antibacterial agents
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