Page 154 - 《精细化工》2023年第6期
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·1304· 精细化工 FINE CHEMICALS 第 40 卷
将 3-溴-(3-氯-2-吡啶基)吡唑-5-甲酰氯(0.55 g, HOMO = –[eE ox + 4.8 – eE (Fc/Fc) +R] (1)
1.72 mmol)和 4-(3,6-二叔丁基咔唑)苯胺(0.70 g, 其中,R = |4.8 – eE (Fc/Fc) – 6.1|
1.89 mmol)溶于 10 mL TEA 和 20 mL DCM 组成的
E g = |eE ox | + |eE red | (2)
混合溶剂中,在油浴 30 ℃搅拌 12 h。反应结束后,
LUMO = –[HOMO – eE g ] (3)
混合液加入去离子水(100 mL)充分搅拌,有机相
式中:E (Fc/Fc) 表示二茂铁的电势(V);E ox 和 E red 分
用 DCM(30 mL×3)萃取 3 次,并用无水 Na 2 SO 4
别代表化合物 1 相对于二茂铁的氧化和还原电势
干燥,过滤后用旋转蒸发仪移除有机溶剂,获得粗产
(V);HOMO、LUMO、E g 的单位皆为 eV;e 表示
物。用 DCM 和 PE 混合液〔V(DCM)∶V(PE) = 1∶1〕
一个电子所带电量(1.6×10 –19 C)。
作为展开剂进行柱层析色谱分离,旋蒸后得到白色 1.4 潜指纹识别实验
1
固体即为化合物 1,产率为 85%。HNMR(400 MHz,
基于化合物 1 的聚集诱导发光性质,通过溶液
DMSO-d 6 ),δ:10.81(s,1H),8.57~7.88(m,6H),
滴加负载的方法实现潜指纹的追踪识别。配制含有
7.69~7.44(m,6H),7.28(m,2H),1.41(s,18H); 化合物 1 的 10 mL MeCN-H 2 O〔V(MeCN)∶V(H 2 O)=
+
HRMS(ESI,C 35 H 33 BrClN 5 O,[M+H] ):m/Z 理论
1∶8,化合物 1 的浓度为 0.5 mol/L〕的溶液,将上
值 655.1630;实验值 655.1632。
述溶液滴加到残留有指纹的介质表面(如塑料直
化合物 1 在二氯甲烷和正己烷(体积比 1∶1)
尺),将负载有化合物 1 样品的指纹放在空气中自然
混合溶液(c = 0.05 mol/L)中,常温下通过溶剂挥
干燥约 10 min,直至溶剂挥发完毕。将负载有化合
发法制得絮状晶体。
物 1 样品的指纹用 365 nm 紫外光照射。
1.3 表征与测试
核磁氢谱:将 10 mg 化合物 1 溶于 DMSO-d 6 2 结果与讨论
中,并以四甲基硅烷为内标物进行测试;高分辨质
谱:将 1 mg 化合物 1 溶于甲醇流动相中进行质谱测 2.1 紫外-可见吸收光谱
试;紫外-可见吸收光谱:化合物 1 溶于 DCM 中, 化合物 1 在 DCM 中的紫外-可见吸收光谱见图
–5
配制成浓度为 1.0×10 mol/L 的溶液,工作波长为 1。如图 1 所示,化合物 1 的吸收峰在 250~400 nm。
250~450 nm;荧光发射光谱测试:化合物 1 分别溶 其中,在 250~300 nm 的吸收峰归属于共轭结构 π-π*
于正己烷、甲苯、DCM、THF 中,配制成浓度为 1.0× 跃迁,300~400 nm 的吸收峰归属于分子内电荷转移
–5
10 mol/L 的溶液,激发波长 350 nm,工作波长为 (ICT) [18] 。
400~650 nm;聚集诱导发光光谱:将化合物 1 溶于
乙腈和水(MeCN-H 2 O)的混合溶剂(水的体积分
–5
数为 0~90%)中,配制成 1.0×10 mol/L 的溶液,
激发波长为 330 nm,工作波长为 300~500 nm;荧光
量子产率:在 330 nm 激发波长下对化合物 1 固体样
品进行测试;动态光散射(DLS)光谱:对含有化
–5
合物 1(浓度为 1.0×10 mol/L)的 MeCN- H 2 O 混合
溶剂(水的体积分数为 80%和 90%)进行测试;红
外光谱:涂膜法制样,测试样品包括化合物 1 粉末固
–5
体和含有化合物 1(浓度为 1.0×10 mol/L)的
MeCN-H 2O 混合溶液(水的体积分数分别为 60%、 图 1 化合物 1 在 DCM 中的 UV-Vis 吸收光谱
–1
70%、80%、90%)。波数范围为 1200~3700 cm 。 Fig. 1 UV-Vis absorption spectra of compound 1 in
dichloromethane
最高占据分子轨道(HOMO)、能隙宽度(E g )、
最低未占分子轨道(LUMO)根据循环伏安曲线计 2.2 荧光发射光谱
算获得,计算公式见式(1)、(2)、(3)。 分别在正己烷、DCM、THF、甲苯溶剂中对化