Page 37 - 《精细化工》2023年第8期
P. 37

第 8 期                          王桂霞,等:  酞菁类盘状液晶材料研究进展                                    ·1651·


            过 POM 和 XRD 测试证实其具有液晶相行为,清亮                        K 5 清亮点比 K 1 高出 100  ℃左右,K 3 和 K 4 的清亮点
            点在 230  ℃,且表现为六方柱状相。将该衍生物沉                         介于 K 2 和 K 5 之间。XRD 和 POM 观察发现,4 种
            积吸附在电极铟锡导电膜上进行导电率测试,发现                             金属配位酞菁衍生物液晶相织构均为四方柱状相,
            其电导率得到了明显的提升。根据文献报道,该衍                             而酞菁衍生物 K 1 表现出六方柱状相。可能是由于 α
            生物的电导率随柱状垂直 π-π 堆叠相互作用的增强                          位的 4 个外消旋烷氧基团和酞菁核中心金属阳离子
            而增强    [39] 。2014 年,BASOVA 等   [40] 向 H 1 中掺杂了     配位影响了其液晶相行为。
            一种十六烷基胺包覆金纳米颗粒的复合材料。结果
            表明,这种复合材料的液晶相行为没有发生明显改
            变,而电导率比之前没掺杂的衍生物提高了两倍以
            上,证明该金纳米颗粒对镍配位酞菁衍生物的导电
            性能起着至关重要作用。
                 2019 年,JIMENEZ-TEJADA 等     [41] 报道了 α 位
            均被硫醚基团取代的镍配位酞菁衍生物 H 2 ,结构如
            下所示。DSC 测试发现,该衍生物在 132  ℃(熔点)
            左右开始熔化,持续升温至 160  ℃(清亮点)由液
            晶相转化为各向同性相。降温过程中,液晶相温度
            范围在 96~152  ℃(凝固点)之间,表现出热致液
            晶性行为,可自组装成六方柱状相。将此类镍配位
            酞菁衍生物液晶材料用于有机薄膜晶体管中,可用
            来检测晶体管的载流子迁移率和退火温度范围。


                                                                   2017 年,MELO 等    [45] 报道了三种长支链烷氧基
                                                               团四取代的酞菁衍生物(V 1 、V 2 、V 3 ),结构如下
                                                               所示。





















            2.4   酞菁核多种金属均可配位修饰的盘状液晶
                 通过文献报道可知,不同金属配位的酞菁衍生                              XRD 测试发现,3 种衍生物在室温下的晶型均
            物具有独特的性能         [42] 。在此研究的基础上,又有文                表现出高度有序的四方柱状相,在小角度区域有 6
            献报道,同一酞菁衍生物可以容纳不同的金属离子,                            个尖锐的衍射峰,晶相间距倒数之间的比值约为 1∶
            如铜、锌、镍等        [43] 。结果表明,可以同时配位多离                  2 ∶2∶ 5 ∶ 8 ∶ 3 ,分别对应(100)、(110)、
            子的酞菁衍生物性能更加多样化,除了作为优良的                             (200)、(210)、(220)和(300)晶面,是典型的
            光电材料之外,还可作为光敏剂应用于光动力学疗                             四方柱状液晶相       [46] 。将这 3 种衍生物制成旋涂薄膜
            法方面。                                               材料应用在有机场效应晶体管(OFET),发现只有
                 2015 年,APOSTOL 等    [44] 报道了 5 种 α 位四取        两种酞菁衍生物(V 2 和 V 3 )薄膜材料作为半导体层
            代外消旋烷氧基团取代的酞菁衍生物(K 1 、K 2 、K 3 、                   可以提高 OFET 的导电性。
            K 4 、K 5 ),结构如下所示。通过 DSC 测试发现,5                        2018 年,KAWANO 等     [47] 报道了 4 种外围被冠
            种衍生物的液晶相均表现出宽泛的温度范围,K 2 和                          醚基团取代的酞菁衍生物(L 1 、L 2 、L 3 、L 4 ),结构
   32   33   34   35   36   37   38   39   40   41   42