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·620·                             精细化工   FINE CHEMICALS                                  第 36 卷

            2.5    杂化体系的光聚合性能                                  化膜相比,加入 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 纳米粒子
                 紫外光固化过程中的无机纳米粒子会影响紫外                          后的固化膜热稳定性显著提高。未加入纳米粒子的
            光的透射,从而影响光固化材料的固化速率。本文                             WSiPUA 固化膜的初始分解温度(T 5% )为 235.1 ℃,
            利用 photo-DSC 方法研究了 Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA          当 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 的质量分数为 1.5%时,
            与 WSiPUA 的杂化体系的双键转化率及聚合速率随                         杂化体系固化膜的 T 5% 增加了 21.9 ℃,为 257 ℃。
            着光照时间的变化,如图 5 所示。图 5 显示,在 m                        且当温度升高至 450 ℃以上时,纯 WSiPUA 固化膜
            (WSiPUA)∶m(DPGDA)∶m(2959)=50∶50∶                   的残重接近 0,而添加磁性纳米粒子的固化膜的残
            1 的体系中,含有 Fe 3 O 4 @SiO 2 @  IPDI-HEA 体系的          重均在 10%左右。该残重不仅包含了耐热的无机纳
            最终双键转化率及聚合速率略低于纯 WSiPUA 体                          米粒子氧化物,还包含由聚合物交联程度增加或磁
            系。随着 Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA 含量的增加,聚合               性纳米粒子在热失重过程中团聚而包裹部分有机物
            速率有所下降,但最终双键转化率下降不明显。  说                           两方面所造成的残留有机物。Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA
            明所制备的 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 纳米粒子在所             的加入可以提高 WSiPUA 固化膜热稳定性的原因不
            研究添加量内对体系的光聚合性能影响不大。                               仅在于无机纳米粒子 Fe 3 O 4 @SiO 2 本身具有很好的

                                                               耐热性,可以使固化膜具有更好的热稳定性,而且
                                                               Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 含有丙烯酸双键可以参与
                                                               聚合能够提高固化膜的交联程度,进一步改善了固
                                                               化膜的热稳定性。
                                                               2.7    固化膜的拉伸性能
                                                                   样品的拉伸性能见表 1。如表 1 所示,在 m
                                                               (WSiPUA)∶m(DPGDA)∶m(2959)=50∶50∶
                                                               1 的体系中,随着 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 含量的增
                                                               加,固化膜的断裂伸长率降低,拉伸强度提高。当

                                                               Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA 的质量分数为 1.5%时,固化
            图 5    不同 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 质量分数的 WSiPUA
                                                               膜的拉伸强度最大,为 18.1 MPa,与未加入纳米粒子
                  体系的双键转化率                                     的 WSiPUA 固化膜相比,其拉伸强度增加了 6.9 MPa。
            Fig. 5    Double bond conversion of WSiPUA with different
                   Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA mass fraction       拉伸强度增加的原因是 Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA 与
            2.6   固化膜的耐热性能                                     低聚物之间较强的相互作用和聚合物交联程度的提
                 图 6 为不同 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 质量分数        高。但 Fe 3O 4@SiO 2@IPDI-HEA 无机颗粒的刚性和材
            固化膜的热失重曲线,内插图为局部放大。固化膜                             料的交联密度增加会导致断裂伸长率降低。
            的配方为 m(WSiPUA)∶m(DPGDA)∶m(2959)=
            50∶50∶1。                                           表 1    不同 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 质量分数固化膜的拉
                                                                    伸性能
                                                               Table  1    Tensile  properties  of  cured  films  with  different
                                                                       Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA mass fraction
                                                                                     w(纳米粒子)/%

                                                                            0      0.5    1.0    1.5    2.0
                                                               拉伸强度/MPa 11.20.55 13.30.65 17.80.59 18.10.72 15. 60.78
                                                               断裂伸长率/% 11.60.60 10.20.55  9.60.68  7.90.84 5.30.74

                                                               2.8    固化膜的介电常数和介电损耗
                                                                   固化膜的介电常数和介电损耗见图 7。如图 7
                                                               所示,在 m(WSiPUA)∶m(DPGDA)∶m(2959)

                                                               =50∶50∶1 的体系中,不含 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-
            图 6    不同 Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 质量分数固化膜的热      HEA 纳米粒子的 WSiPUA 体系的介电常数非常低,
                  失重曲线                                         表明其固化膜具有优异的电绝缘性能。而加入
            Fig.  6    TG  curves  of  cured  films  with  different  Fe 3 O 4 @
                   SiO 2 @IPDI-HEA mass fraction               Fe 3 O 4 @SiO 2 @IPDI-HEA 纳米粒子的光固化膜的介
                                                               电常数和介电损耗明显提高,并随着 Fe 3 O 4 @SiO 2 @
                 从图 6 可见,与未加入纳米粒子的 WSiPUA 固                    IPDI-HEA 含量的增加而增加,当 Fe 3 O 4 @SiO 2 @
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