Page 165 - 《精细化工》2020年 第10期
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第 10 期 丁 波,等: 高容量硅基负极材料及其厚膜成型技术和性能 ·2095·
半共格和非共格低,意味着 Si 容易在 MgO 表面成 从图 6a 和 b 可以看出,厚膜极片载物厚度为
核长大。 312.5 μm,约为薄膜极片载物厚度(42.4 μm)的 7.4
MgO 与 Si 形成两相共格关系能够提供高的共 倍。从图 6c 可以看出,薄膜电极和厚膜电极的厚度
格界面强度,这种共格界面强度使得弹性模量较高 存在较大的差别;从图 6d 可以观察到,厚膜电极表
的 MgO 能够抵抗或缓解 Si 的体积膨胀,主要为 Si 面较薄膜电极表面光亮,说明厚膜电极极片的压实
的尺寸变化提供力学束缚条件。此外,由两块晶体 密度较薄膜电极极片的压实密度大。
叠加而产生的明暗相间的条纹为莫尔条纹 [39-40] ,如 2.2.2 厚膜电极电化学性能
图 5c 所示(蓝色方框内),表明 Si 与 MgO 在负极 制备的负极复合材料的 CV、交流阻抗值与阻抗
复合材料中形成叠加复合结构,相邻两相 Si-MgO 的实部(Z′)和频率的−1/2 次方(w –1/2 )在低频区
可以看成薄膜-基底结构,由于 MgO 颗粒属于金属 的测试结果分别如图 7a、b、c 和 d 所示。从图 7a、
氧化物,具有弹性模量高和不参与体积膨胀等优势, b 可以看出,通过 SMG 材料与无碳材料 SM 的 CV
使用 MgO 作为基底有效缓冲了硅材料在充放电过 曲线对比,结果显示 SMG 和 SM 均在 0.35 和 0.55 V
程中产生的应力和体积膨胀,从而维持硅基负极复 左右发生硅材料的脱锂反应,而由于石墨材料在
合材料在充放电循环中的结构稳定性。从图 5c 高分 0.21 V 左右存在脱锂反应峰,使 SMG 复合材料氧化
辨透射电镜(HRTEM)中没有发现镁的晶格条纹, 峰的分布变宽。随着扫描次数的增加,硅基复合材
同时结合图 3d 和 e 中的 XRD 分析可知,在反应产 料被激活,随后的脱嵌锂过程中,其氧化还原峰的
物中没有剩余的 Mg。因此,在固相反应 SiO+Mg 位置未发生改变,说明负极复合材料具有较稳定的
Si+MgO 过程中,Mg 作为还原剂引入,Mg 被完全 结构。从图 7c 可以发现,捏合开炼工艺制备的厚膜
用于 SiO 的还原,全部被氧化成缓冲相 MgO。由于 极片的电极阻抗低于涂布工艺制备的薄膜极片的电
MgO 为非活性材料,不能进行锂离子的脱嵌,无法 极阻抗,具有更好的电极过程动力学性能。
提供容量,没有容量贡献,但能在一定程度上维持 在低频区每个样品呈近线性形状,每条线的斜
复合材料的稳定结构。石墨除了可以缓冲硅基复合 率代表锂离子在电极中的扩散行为。为了更好地比
材料的体积变化,还可以将 SM 材料分割包围,不 较不同黏接剂对 Li 扩散系数的影响绘制了低频区
+
仅能提供重要的导电网络和弹性矩阵,保证粒子之 Z′和 w –1/2 关系图,如图 7d 所示。Li 扩散系数(D Li )
+
+
间的电子连接,还可以缓冲体积的变化,提高 SMG 可以由 Warburg 系数(σ w)确定 [41] ,如式(1)所示:
负极复合材料的电化学性能。 D Li =R T /(2A n F c σ w ) (1)
2 2
2 4 4 2
2
+
2.2 厚膜电极及其电化学性能 式中:R 为气体常数,8.314 J/(mol·K);T 为测试试
2.2.1 厚膜电极形貌观察 样时的温度,K;A 为浸入电解液电极面积,cm ;n
2
厚膜电极和薄膜电极 SEM 截面图和实物图分 为转移电子数;F 为法拉第常数,96500 C/mol;c
别如图 6a、b、c 和 d 所示。 为电极中锂离子的浓度,mol/L;σ w 为 Warburg 系
1/2
数,Ω/s 。在薄膜电极和厚膜电极中,除σ w 外其
余这些物理量均相同,故锂离子扩散系数只与σ w
有关。而σ w 通过低频区线性拟合确定,如式(2)
所示。
Z′=R e +R ct +σ w w –1/2 (2)
式中:R e 为电解质电阻,Ω;R ct 为传荷阻抗,Ω。
由图 7d 可以看出,SMG-6h 负极活性材料分别使
用捏合开炼厚膜极片制备工艺和常规涂布薄膜极片
1/2
制备工艺的 Warburg 系数分别为 4.54 和 95.90 Ω/s ,
故厚膜电极锂离子扩散系数远大于薄膜电极。电化
学阻抗结果说明,电极制膜工艺对电极极片阻抗有
较大影响,使用捏合开炼厚膜极片制备工艺明显提
图 6 薄膜电极(a)和厚膜电极(b)极片 SEM 截面图; 高了电极的离子扩散系数,使得电解液与电极表面
薄膜电极和厚膜电极极片截面(c)和表面(d)实 的界面阻抗减小。这是由于使用捏合开炼工艺使得
物图 黏结剂的纤维反复延展叠加,构成了空间网状结构,
Fig. 6 SEM cross-section images of thin electrode (a) and 导电剂均匀附着在网状结构上,构成了均一稳定的
thick electrode (b); cross section (c) and surface
photographs (d) of thin and thick electrodes 导离子通道。