Page 86 - 《精细化工》2020年第5期
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·936·                             精细化工   FINE CHEMICALS                                 第 37 卷

                                                               略微增加,说明第一次晶化过程中未充分结晶的无
                                                               定形前驱体在后处理过程中得到进一步结晶。
                                                               2.1.2    钛物种的判定
                                                                   UV-Vis 光谱是一种检测钛配位状态的手段。处
                                                               理前后 TS-1 样品的 UV-Vis 谱图见图 4。由图 4 可
                                                               以看出,水热处理前后分子筛的钛配位状态产生了
                                                               变化。TS-1-N 分子筛仅在 210  nm 处出现明显的吸
                                                               收峰,说明 TS-1-N 中含有四配位骨架钛,且不含其
                                                               他配位状态的钛物种。分子筛 TS-1-U 不但在 210 nm

                                                               处出现明显吸收峰,峰强度较 TS-1-N 弱,且在 270 nm
            图 3    处理前后 TS-1 样品的 N 2 物理吸脱附曲线(a)和孔径
                                                               处也出现了吸收峰,该峰被认为是六配位钛物种的
                  分布图(b)
            Fig. 3    Nitrogen adsorption-desorption curves (a) and pore   特征吸收峰 [25-26] 。因此可以推断,分子筛 TS-1-U 在
                   size  distribution  (b)  of  TS-1  samples  before  and   有模板剂存在的碱性环境下,处理过程中发生溶解-
                   after treatment                             再结晶现象,部分四配位钛转化成六配位钛。

                  表 1    处理前后 TS-1 样品的物性表征结果
            Table  1    Characterization  results  of  physical  properties  of
                    TS-1 samples before and after treatment
                                                        3
                                           2
                  相对结晶            比表面积/(m /g)   孔体积/(cm /g)
                               ②
                       ①  I 960/I 800
                   度/%              ③  S micro   S ext    ⑥  ⑦
                                         ④
                                             ⑤
                                 S BET          V total  V micro
            TS-1-N   89    1.16   369  355   14   0.23  0.19
            TS-1-U   100   1.13   407  394   13   0.27  0.18
                 注:①由 XRD 谱图中特征峰面积计算的相对结晶度;②
                              –1
            FTIR 谱图 960 和 800 cm 处峰的相对强度大小;③由 BET 方程
            计算所得的比表面积;④由 t-plot 方法计算的微孔比表面积;⑤
            由 t-plot 方法计算的介孔比表面积;⑥由 t-plot 方法计算的总孔

            体积;⑦由 t-plot 方法计算的微孔体积。                                  图 4    处理前后 TS-1 样品的 UV-Vis 谱图
                                                               Fig.  4    UV-Vis  patterns  of  TS-1  samples  before  and  after
                 由图 1 可以看出,水热处理后的分子筛均仍在                              treatment

            2θ=7.8°、8.8°、23.2°、23.8°、24.3°处出现特征峰,
                                                                   图 5 为 TS-1 样品的 UV-Raman 谱图,激发光源
            说明其保持了完美的 MFI 拓扑结构,无明显杂晶,
                                                               为 244 nm。图 5 中 TS-1-N 和 TS-1-U 均在 290、380、
            且样品在 2θ=24.3°处均为单衍射峰。水热处理后分                                         –1
                                                               800、960、1125 cm 处出现明显的谱峰。290、380、
            子筛 TS-1-U 的结晶度得到了提升(如表 1 所示),                            –1
                                                               800 cm 处的谱峰被认为是分子筛 MFI 结构的信号
            原因是 TS-1-N 分子筛的表面存在无定形的 SiO 2 ,                                    –1
                                                               峰。960、1125 cm 处的谱峰被认为是 TS-1 中骨架
            其在含有模板剂的碱性环境中进行后处理时,大量                                                            –1
                                                               四配位钛的信号峰,其中 960  cm 处的谱峰是由
            无定形 SiO 2 重结晶形成晶粒更为完整的分子筛,使                        于 TiO 4 四面体的不对称伸缩振动产生的,1125 cm              –1
            得处理后 TS-1-U 样品的结晶度大幅提升。从图 2 可                      处的谱峰是由于 TiO 4 四面体的全对称伸缩振动产
            以看出,TS-1 样品为六棱柱形,且处理前后的 TS-1                       生 [34-37] 。分子筛 TS-1-U 在 695 cm 处出现一个新的
                                                                                            –1
            分子筛均处于纳米尺度,粒径约为 700 nm×400 nm。                     谱峰,该峰是因为 TiO 6 八面体中 Ti—O 键的伸缩振
            分子筛 TS-1-U 出现一些介孔结构,说明处理后分子                        动造成的    [29-30] ,与 UV-Vis 的表征结果相一致。相比
            筛的孔道结构得到改善。这一现象也在 N 2 物理吸脱                         TS-1-N 而言,分子筛 TS-1-U 在 960、1125  cm 处
                                                                                                         –1
            附曲线(图 3a)中得到印证。通过 N 2 物理吸脱附                        谱峰强度减弱,说明骨架四配位钛的含量变少。因
            曲线可以发现,在相对低压区 TS-1-N 和 TS-1-U 均                    此可以推断,TS-1-U 在有模板剂存在的碱性环境
            呈现出典型的微孔材料的吸附等温线(Ⅰ类等温线)                            下,二次晶化处理的过程中部分四配位钛物种转化
            特征,吸附量急剧上升。在相对高压区 TS-1-N 出现                        为了六配位钛物种。
            小的滞后回环,而分子筛 TS-1-U 出现较大的滞后回                            处理前后 TS-1 样品的 FTIR 谱图见图 6。从图
            环。原因包括两点:一是晶粒之间堆积产生的毛细                             6 可以看出,分子筛 TS-1-N 和 TS-1-U 均在 450、550、
            凝结现象;二是 TS-1-U 分子筛中出现介孔结构。由                        800、1100 和 1225 cm 处出现特征峰,可以推断分
                                                                                  –1
            表 1 可以看出,分子筛 TS-1-U 的结晶度明显升高,                      子筛水热处理前后 MFI 拓扑结构并未发生改变。分
                                                                                               –1
            比表面积与微孔比表面积均有少量增加,且孔容也                             子筛 TS-1-N 和 TS-1-U 均在 960 cm 处出现谱峰,
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