Page 20 - 《精细化工》2021年第10期
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·1950·                            精细化工   FINE CHEMICALS                                 第 38 卷

            性。使用光引发剂产生的自由基在紫外光照射下与                             提高降解性能。因此,相比传统纳米压印光刻胶具
            光活性 WK 交联,水显影获得了线宽<2  μm 的微图                       有轻松除胶的性能。
            案。

















            图 5   电子束光刻下正负蛋清抗蚀剂的“SNNU”图案                [64]
            Fig. 5    “SNNU” pattern of positive and negative egg white   图 6   香豆素的双重光响应机理       [67]
                   resist under electron beam lithography [64]   Fig. 6    Double light response mechanism of coumarin [67]

                 蛛丝蛋白的光刻机理与蚕丝都是由结构的转化
                                                                   MADDIPATLA 等   [68] 和 MCCORMICK 等  [69] 通过
            控制溶解性而实现成像。但与蚕丝蛋白相比,蛛丝
                                                               将香豆素单元镶入聚合物的主链中来制备香豆素聚
            蛋白提取时能够精准地控制蛋白质相对分子质量在                             酯。这种香豆素聚酯在 350~365 nm 的紫外光辐射
                  4
            7.2×10 ,从而避免了相对分子质量分布较宽而引起
                                                               下,香豆素单元之间发生[2+2]环加成反应促使聚合
            的分辨率下降等缺点,然而蜘蛛的产丝习性却导致
                                                               物链交联,而在 254 nm 的紫外光辐照下发生聚合物
            蛛丝的收集困难。蛋清光刻材料虽具有与各种基底
                                                               的酯键断裂,见图 7。利用这种双重光化学特性可
            优异的粘附性以及高分辨率的潜力,但是蛋清抗蚀
                                                               在聚合物薄膜涂层上制备微米级的特征图案,用作
            剂的剥离时间太长而不利于微电子工艺。羊毛光刻
                                                               2D 和 3D 打印器件材料以及控制释放器。
            材料则需要引入光交联基团才可实现光刻成像,虽
            然成像的效果不及蚕丝等,但是 WK 的水溶性、生
            物相容性和掺杂性都更优于蚕丝等,使其在组织工
            程应用中具有更大潜力。

            3    天然提取物与多糖类光刻材料


                 除蚕丝、羊毛等动物蛋白被用作光刻材料外,
            如香豆素、多糖等植物提取物也可被作为光刻材料
            的研究。
            3.1    香豆素类光刻材料
                 植物提取的香豆素类化合物具有双重光响应
            性,即在 350 nm 紫外光附近可进行自交联,而在

            254 nm 紫外光附近可进行解交联,见图 6。
                                                                      图 7   香豆素聚酯交联与解交联反应          [69]
                 因此,常将香豆素镶入聚合物中,使其作为光
                                                               Fig. 7    Cross-linking and decrosslinking reaction of coumarin
            交联基团,用于光刻材料。                                             polyester [69]
                 2017 年,ZHAO 等     [67] 使用 5,7-二芳酰氧基-4-
            甲基香豆素、丙烯酸酐和 3,6-二氧基-1,8-二硫辛烷                           2010 年,LIN 等 [70] 制备了含香豆素基的 UV-NIL
            的混合物作为 pH-UV 双响应紫外光纳米压印光刻                          光可逆抗蚀剂,其由光交联剂 2-[(4-甲基-2-氧代氧-
            的抗蚀剂。利用其在 365 nm 紫外光照射下,通过抗                        1-苯并吡喃-7-基)氧基]乙酯(AHEMC)和单体苯氧
            蚀剂中的巯基丙烯酸酯的聚合和香豆素部分的光二                             基乙二醇丙烯酸酯(AMP-10G)组成。在 365 nm
            聚来进行光固化,获得了低于 5 μm 的三角形图案。                         紫外光辐射下,通过丙烯酸酯基团的自由基聚合与
            且固化后的抗蚀剂可在碱溶液中进行降解,也可以                             AHEMC 的香豆素部分的光二聚可形成交联网络,
            调节紫外光的波长到 254 nm,通过降低交联密度来                         见图 8。此外,形成的含香豆素二聚体的聚合物网
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