Page 155 - 《精细化工》2021年第3期
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第 3 期                    顾   娜,等:  千克级 DPP-4 抑制剂氢溴酸替格列汀工艺改进                              ·575·


            曲振动吸收峰,以上结果表明,氢溴酸替格列汀结                             上 H 的化学位移;δ 3.70~3.61 (m,2H)为吡咯烷基上
            构与预期相符。                                            H 的化学位移;δ 3.16~3.12 (m,2H)为—SCH 2CH 2N—
            2.1.5   氢溴酸替格列汀 XRD 分析                             上 H 的化学位移;δ  3.06 (dd,2H)为吡咯烷基上 H
                 氢溴酸替格列汀的 XRD 谱图如图 3 所示。                       的化学位移;δ  2.31~2.21 (m,1H)为吡咯烷基上 H
                                                               的化学位移;δ 2.17 (s,3H)为—CH 3 上 H 的化学位
                                                               移。分子结构中—NH—上的 H 属活泼 H,所以在谱
                                                               图中并未出现对应的质子峰。












                     图 3   氢溴酸替格列汀的 XRD 谱图
                Fig. 3    XRD patterns of teneligliptin hydrobromide

                 由图 3 可知,中试样品在 2θ=5.4°、13.4°、14.5°、                                        1
            22.5°、26.5°出现特征峰,产品晶型与文献               [15]   (原          图 4   氢溴酸替格列汀的 HNMR 谱图
                                                                       1
                                                                 Fig. 4    HNMR spectra of teneligliptin hydrobromide
            研晶型:2θ=5.4°、13.4°、14.4°、22.6°、26.5°)和
            外购样品晶型基本一致。                                        2.2   反应机理
                                  1
            2.1.6   氢溴酸替格列汀 HNMR 谱图                                氢溴酸替格列汀结构中含 2 个手性碳原子为
                                  1
                 氢溴酸替格列汀的 HNMR 谱图如图 4 所示。                      (2S,4S)构型,化合物Ⅱ吡咯烷上连接羰基的碳原
            由图 4 可知,δ 7.79 (d,2H)、7.49 (t,2H)、7.32 (t,         子为手性碳原子,为 S 型。该反应在弱酸条件下进
            1H)为芳环上 H 的化学位移;δ  5.96 (s,1H)为吡唑                  展,化合物Ⅱ羰基质子化后和胺反应生成亚胺离
            烷基上 H 的化学位移;δ 4.75 (m,2H)为—SCH 2 N—上               子,亚胺离子活性中间体被具有亲核性的氢负离子
            H 的化学位移;δ  4.63~4.43 (m,2H)为哌嗪环上 H                 进攻,得到中间体Ⅳ,由于存在空间位阻,三乙酰
            的化学位移;δ 4.28~4.00 (m,6H)为哌嗪环上 H 的                  氧基硼氢化钠氢负离子只能从位阻较小的位置进
            化学位移;δ  3.93~3.86 (m,1H)为—COCH—上 H                 攻,所以产物基本为(2S,4S)构型,机理如图 5
            的化学位移;δ 3.78~3.71 (m,2H)为—SCH 2 CH 2 N—            所示。


























                                      图 5   化合物Ⅱ和Ⅲ为起始原料合成替格列汀的反应机理
                          Fig. 5    Reaction mechanism of the synthesis of teneligliptin from compounds  Ⅱ and  Ⅲ

            2.3    胺化还原合成中间体Ⅳ的工艺优化                             Ⅱ和Ⅲ物质的量比为 1.0∶1.0 为基准,仅改变还原
                 按照 1.3.1 节合成方法,以甲苯为溶剂,化合物                     剂Ⅴ用量,合成中间体Ⅳ,考察还原剂Ⅴ用量对中
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