Page 83 - 《精细化工》2021年第6期

第 6 期 郑 磊，等: 等离子体引发 PS 微孔板接枝 SMCC 及蛋白吸附性能 ·1145·

图 5 未处理的 PS 板（a）、PS-g-NH 2 （b）、PS-g-SMCC 图 6 PS-g-NH 2 （a）和 PS-g-SMCC（b）的 N 1s 谱图
（c）的 EDS 图 Fig. 6 N 1s spectra of PS-g-NH 2 (a) and PS-g-SMCC (b)
Fig. 5 EDS spectra of untreated PS plate (a), PS-g-NH 2 (b) microplates
and PS-g-SMCC (c)
2.6 表面改性处理对 OD 值的影响
表 1 PS、PS-g-NH 2 和 PS-g-SMCC 微孔板的元素组成
Table 1 Element composition of PS, PS-g-NH 2 and PS-g-SMCC 在 450 nm 波长下，使用酶标仪测定等离子体处
microplates 理与 SMCC 接枝对 PS 微孔板 OD 值的影响，如图 7
样品 x(C)/% x(N)/% x(O)/% 所示。未经处理的 PS 微孔板的 OD 值为 0.0349±
PS 99.23 0 0.77 0.00137，经等离子体处理与 SMCC 接枝后 PS 微孔
PS-g-NH 2 78.44 3.39 18.17
PS-g-SMCC 86.55 3.17 10.28 板的 OD 值均未发生明显变化，因此，等离子体处
理及 SMCC 接枝均不影响 PS 微孔板进行 ELISA 测
从图 5 和表 1 可以看出，未经处理的 PS 微孔板
试，OD 值满足使用要求。
中不含 N，但 O 原子个数百分比为 0.77%，是由于
PS 的表面污染，吸附了少量的氧。等离子体处理接
枝氨基后，PS 微孔板表面出现 N 元素，N 原子个数
百分比为 3.39%，O 原子个数百分比也增到 18.17%，
这是由于在等离子体处理过程中在 PS 表面引入了丙
烯酰胺，以及在等离子体处理后 PS 微孔板暴露于空
气时在表面引入了含氧基团。进一步接枝 SMCC 后，
N、O 原子个数均发生变化，结合 FTIR 分析，表明
SMCC 被接枝到 PS 上。
2.5 XPS 分析
PS-g-NH 2 与 PS-g-SMCC 表面 N 1s 的全谱图如
图 6 所示。图 6a 中 PS-g-NH 2 在结合能为 399.5 eV
处对应 C—NH 2 中 N 的化学位移，说明等离子体处
理引入的 N 元素为丙烯酰胺中的 N 元素。而图 6b
中 PS-g-SMCC 新增了一个峰，出现在 400.8 eV 处，
为—CONHCOCH—中 N 原子的化学位移。说明
PS-g-NH 2 表面的氨基与 SMCC 发生了反应，PS 微
孔板上接枝了 SMCC。

图 7 PS-g-NH 2 （a）和 PS-g-SMCC（b）的 OD 值
Fig. 7 OD values of PS-g-NH 2 (a) and PS-g-SMCC (b)

2.7 蛋白吸附性能分析
SMCC 质量浓度对 PS-g-SMCC 蛋白吸附量的
影响如图 8 所示。