Page 159 - 《精细化工》2023年第9期

第 9 期 郭玉静，等: 用于合成气制高值产物的 InZrO x 制备及性能 ·2007·

分布明显但稍显稀疏，氧化物 InZr-H 整体的晶粒 TEM、HRTEM 图及利用 ImageJ 软件统计的晶粒粒
尺寸较大，并且部分出现正方体结构。通过 EDS 径见图 4、5。由图 4 可以看出，经过无水乙醇分散
能谱数据计算可得，共沉淀法合成的 InZr-550 ℃ 后，共沉淀法合成的 InZr-550 ℃分散更为均匀，晶
的 In/Zr 物质的量比为 2.000∶1，水热法合成的 粒轮廓清晰，晶粒粒径在 15 nm 左右，而水热法合
InZr-H 的 In/Zr 物质的量比为 2.502∶1，说明水热 成的 InZr-H 结构紧密，晶粒粒径在 25 nm 左右，两
法合成的 InZr-H 表面的 In 元素含量更高，氧化物 种方法制得的氧化物粒径相差较大。由图 5 可见，
内外 In、Zr 元素分布不均匀，从而导致水热法合成 随着煅烧温度的提高，共沉淀法合成的 InZr-550 ℃
的 InZr-H 的催化效果较差。 的晶粒粒径逐渐增加。TEM 测量结果与 XRD 估算
2.2.3 HRTEM 分析 结果接近且规律相同。
对不同合成方法和煅烧温度下制得的 InZrO x 的

a、b、c—InZr-550 ℃；d、e、f—InZr-H
图 4 不同合成方法下制得样品的 TEM 图（a、d）、粒径分布（b、e）及 HRTEM 图（c、f）
Fig. 4 TEM images (a, d), particle size distribution (b, e) and HRTEM images (c, f) of products prepared by different
synthesis methods