Page 112 - 精细化工2020年第2期
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·314·                             精细化工   FINE CHEMICALS                                  第 37 卷

            有与 Ni/SiO 2 -IMP 相比较大的比表面积、较高的氢                    衍生的催化剂中氧化态 Ni 与载体具有很强的相互
            气吸附量和金属分散度(表 2),这也与 TEM 表征                         作用,且高度分散于载体中。另外,随着焙烧温度
            结果相一致。同时,根据催化剂金属分散度和表 1                            的增加,Ni-PS-AEH-x 的峰值向更高温度移动,说
            中反应结 果计算的 催化剂 Ni/SiO 2 -IMP 和                      明 Ni 与载体之间的相互作用逐渐增强,但催化剂
            Ni-PS-AEH-400 的 TOF 可知,Ni-PS-AEH-400 具有            Ni-PS-AEH-500 在较低温度 383 ℃处出现了一个小
            更高的催化效率。                                           的耗氢峰,说明该催化剂中含有与载体存在弱相互作

                                                               用的 NiO 物种,不利于还原后 Ni 纳米粒子的分散。



















                                                                         图 8    镍基催化剂的 H 2 -TPR 图
                                                                    Fig. 8    H 2 -TPR diagrams of Ni-based catalysts

                                                               2.2.5    催化剂 XPS 表征研究
                                                                   利用 X 射线光电子能谱技术对催化剂表面 Ni
                                                               的存在状态进行了研究。根据文献               [21]  报道,在 Ni2p 3/2
                                                                                                         2+
                                                               中金属 Ni 的结合能(BE)为 852  eV 左右,Ni 的
                                                               BE 在 855  eV 左右,860  eV 左右为卫星峰。由图 9

                                                               中 Ni2p 3/2 的 XPS 谱图可知,所有催化剂的 Ni2p 3/2 光谱
                       a—Ni-PS-AEH-400; b—Ni/SiO 2-IMP
                                                               均呈现两种价态的镍,其中氧化态的镍可能为干燥送
                   图 7    镍基催化剂的氮气吸附-脱附曲线
            Fig. 7    N 2   adsorption-desorption  isotherms  of  Ni-based   样分析过程中样品与空气接触被氧化而来。
                   catalysts

                       表 2    催化剂的物理化学性质
             Table 2    Physical and chemical properties of the catalysts
                        Ni 质量 比表          氢气吸 金属分       ③
                催化剂      分数 /  面积/   孔体积/  附量 /  散度 /   TOF /
                                                   ②
                                             ②
                            ①
                                      3
                                                       –1
                                                       h
                                    (cm /g)
                                2
                                            3
                          %   (m /g)      (cm /g)   %
             Ni-PS-AEH-400  11.8   216   1.22   1.92   10.06  118
              Ni/SiO 2-IMP   10.9   161   0.34   0.49   2.57  40
                 ①由 ICP 数据得到;②由 H 2-Chemisorption 数据得到;③
            由金属分散度和表 1 中反应数据计算得到。

            2.2.4    催化剂 H 2 -TPR 表征研究                                    图 9    镍基催化剂的 XPS 图
                 图 8 为催化剂 Ni/SiO 2 -IMP 和 Ni-PS-AEH-x 的               Fig. 9    XPS spectra of Ni-based catalysts

            H 2 -TPR 图。由图 8 可以看出,Ni/SiO 2 -IMP 分别在                 从图 9 还可以看出,Ni/SiO 2 -IMP 中金属 Ni 和
                                                                 2+
            312 和 483 ℃出现了两个还原峰,表明在催化剂表                        Ni 的 BE 分别为 852.8 和 855.9 eV,Ni-PS-AEH- 400
                                                                             2+
            面存在两种不同状态的 NiO 物种。位于 312 ℃处的                       中金属 Ni 和 Ni 的 BE 分别为 853.2 和 856.4  eV,
            低温还原峰对应于与纯 NiO 性质类似的大块或者自                          化学位移升高主要是由于 Ni 与载体之间产生了电
            由 NiO 的还原,较高温度处的还原峰(483 ℃)对                        子作用,证明 Ni-PS-AEH-400 中存在较强的金属-
            应于与载体产生较强相互作用的 NiO 的还原                    [20] 与   载体相互作用。由 TEM 表征结果可知,Ni-PS-AEH
            Ni/SiO 2 -IMP 不同, 催化剂 Ni-PS-AEH-x 在约               中镍纳米粒子粒径小且均匀分散在载体上,从而提
            450~750 ℃呈现一个很宽的耗氢峰,表明镍硅酸盐                         供了更多的与载体接触的位点,增强了 Ni 元素与载体
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